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技术研究所
梦想着用光来设计的世界的研究所
为实现这个梦想而不断努力
为实现这个梦想而不断努力
实现精密刻印,利用光学图案的设计模具积层技术,利用软模具的量产技术,开发难附着材料用树脂等,世界上首次由ADP开发的光学图案设计刻印( OPDI:Optic Pattern Design Imprint )技术,正在进行持续改善的研究。
研发任务
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加强OPDI技术的量产能力加强逆固化刻印的量产能力
大面积刻印技术
LED瞬时固化技术 -
稳定的技术体现难附着材料(PET, TPU等)刻印技术
3微米一下图案形成刻印技术
高精密Linear LED硬化器 -
确保新增长动力曲线光学图案
光角&光扩散调节图案
实现透明电磁波阻隔贴膜用5微米线幅
技术研究所简介
![](./m9_data/otherpage/technique/imgs/20200312916026/block.jpg)
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技术开发部
- 实现图案结构及形状,增值等3D刻印功能
- 固化,异形,附着,表面等多种物性体现技术
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设计开发部
- 光学功能调节,图案,口罩,涂层调节等与表现相关的技术开发